高錳酸鉀處理磷烷廢氣

半導體工業(yè)的有毒廢氣主要來自晶體外延、干法刻蝕、CVD等工藝。在這些工藝中，使用了例如硅烷(SiH4)、磷化氫(PH3)、四氟化碳(CF4)、硼烷、三氯化硼等各種高純度特殊氣體來處理晶片。會產(chǎn)生有毒性、窒息性以及腐蝕性的磷烷廢氣。這種廢氣必須經(jīng)過處理才能排放。那么，如何處理磷烷廢氣呢？

現(xiàn)有技術中，最常用的是使用高錳酸鉀溶液處理含磷烷烴廢氣，高錳酸鉀溶液自上而下噴淋，在噴淋塔中接觸吸收含磷烷烴廢氣，而含砷廢氣則一般采用高錳酸鉀氧化法處理。處理該類廢氣的具體方法是：首先把高錳酸鉀溶液裝入二級過濾裝置中，把氣體通入高錳酸鉀溶液內(nèi)進行反應產(chǎn)生的結晶通過排污口排出，防止產(chǎn)生的結晶物堵塞噴淋系統(tǒng)，且廢氣從高錳酸鉀溶液內(nèi)經(jīng)過使廢氣與溶液充分接觸反應，使凈化效果更好；其次廢氣通過二級過濾裝置的高錳酸鉀溶液吸收后，再通過三級過濾裝置噴淋堿液再次吸收，最后通入臥式過濾罐內(nèi)通過加熱棒加熱把把殘留的廢氣完全吸收在排放出去，使磷烷尾氣凈化效果更好。

產(chǎn)品推薦：高錳酸鉀